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      北京:《電子工業大氣污染物排放標準》(征求意見稿)

      時間:2018-06-22 14:36

      來源:北京市環境局

      DB11/T1367固定污染源廢氣甲烷/總烴/非甲烷總烴的測定便攜式氫火焰離子化檢測器法

      DB11/T1484固定污染源廢氣揮發性有機物監測技術規范

      3術語和定義

      下列術語和定義適用于本標準。

      3.1電子專用材料specialelectronicmaterials

      在半導體集成電路、各種電子元器件(包括有源及無源元器件、激光器件、光通訊器件、發光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎產品)制造中所采用的特殊材料。本標準中電子專用材料涵蓋的產品范圍包括半導體材料、覆銅板、電子銅箔、光電子材料、壓電晶體材料、電子專用精細化工與高分子材料等,但不包括真空電子材料、磁性材料、電子焊接材料和電子陶瓷材料。具體產品范圍見附錄A。

      3.2電子元件electricalunit

      電子電路中具有某種獨立功能的單元,可對電路中電壓和電流進行控制、變換和傳輸等。一般包括:電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產品。

      3.3印制電路板printedcircuitboard(PCB)

      在絕緣基材上,按預定設計形成印制元件、印制線路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線路成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板,它們又有單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板,以及剛撓結合印制電路板和高密度互連印制電路板等。高密度互連印制電路板,簡稱HDI板。

      3.4半導體器件semiconductordevice

      利用半導體材料的特殊電特性制造,以實現特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產品。

      3.5光電子器件photoelectroncomponent

      利用半導體光-電子(或電-光子)轉換效應制成的各種功能器件。如半導體光電器件中的光電轉換器、光電探測器等;激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等;光通信電路及其他器件;半導體照明器件等。

      3.6顯示器件displaydevice

      基于電子手段呈現信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件(TN/STN-LCD、TFT-LCD)、場發射顯示器件(FED)、真空熒光顯示器件(VFD)、有機發光二極管顯示器件(OLED)、等離子顯示器件(PDP)、發光二極管顯示器件(LED)、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。

      3.7電子終端產品electronterminalsproducts

      以采用印制電路板(PCB)組裝工藝技術為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子信息產品。如通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽設備、電子測量儀器等。

      3.8揮發性有機物volatileorganiccompounds(VOCs

      指參與大氣光化學反應的有機化合物,或者根據有關規定確定的有機化合物。

      在表征VOCs總體排放情況時,根據行業特征和環境管理要求,可采用總揮發性有機物(以TVOC表示)、非甲烷總烴(以NMHC表示)作為污染物控制項目。

      3.9企業邊界enterpriseboundary

      電子工業企業或生產設施的法定邊界。若無法定邊界,則指企業或生產設施的實際占地邊界。

      3.10密閉排氣系統closedventsystem

      將工藝設備或車間排出或逸散出的大氣污染物,捕集并輸送至污染控制設備或排放管道,使輸送的氣體不直接與大氣接觸的系統。

      3.11揮發性有機物治理設施treatmentfacilityforVOCs

      處理揮發性有機物的燃燒裝置、吸收裝置、吸附裝置、冷凝裝置、生物處理設施或其它有效的污染控制設施。

      3.12現有污染源Existingpollutionsource

      指本標準實施之日前,已建成投產或環境影響評價文件已通過審批的工業企業和生產設施。

      3.13新建污染源Newpollutionsource

      指本標準實施之日起,環境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建的建設項目。

      4大氣污染物控制要求

      4.1時段劃分

      4.1.1現有污染源自本標準實施之日起至2019年12月31日止,執行第Ⅰ時段的排放限值;自2020年1月1日起執行第Ⅱ時段規定的限值。

      4.1.2新建污染源自本標準實施之日起執行第Ⅱ時段規定的限值。

      4.1.3工藝措施和管理要求自本標準實施之日起執行。

      4.2排氣筒排放濃度限值

      4.2.1電子工業生產過程中,設備或車間排氣筒排放大氣污染物濃度執行表1規定的限值。

       

      4.2.2廢氣焚燒設施應對排放煙氣中的二氧化硫、氮氧化物和二噁英類進行監測,并達到表2規定的要求。其他大氣污染物排放還應滿足表1的控制要求。

       

      4.2.3對進入VOCs燃燒(焚燒、氧化)裝置的廢氣需要補充氧氣(空氣)進行燃燒、氧化反應(燃料助燃需要補充空氣的情況除外)時,排氣筒中實測大氣污染物排放濃度應按公式(1)換算為基準含氧量為3%的大氣污染物基準排放濃度,并與排放限值比較判定排放是否達標;如進入VOCs燃燒(焚燒、氧化)裝置的廢氣中含氧量可滿足自身燃燒、氧化反應需要,或者燃料助燃需要補充空氣時,按排氣筒中實測大氣污染物濃度判定排放是否達標,此時裝置出口煙氣含氧量不應高于裝置進口廢氣含氧量。

      ……………………………………….(1)

      式中:

      ——大氣污染物基準排放濃度,mg/m3;

      編輯:張偉

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